การเคลือบผิวแบบ CVD


การเคลือบผิวแบบ CVD (Chemical Vapor Deposition, การเคลือบผิวด้วยไอเคมี) เป็นกรรมวิธีสร้างชั้นฟิล์มที่มีความหนา 4-8 μm ภายในเตาที่อุณหภูมิ 800-1000 °C

สามารถทำการเคลือบฟิล์ม TiC (ไทเทเนียมคาร์ไบด์) Ti (C,N) (ไทเทเนียมคาร์โบไนไตรด์) TiN (ไทเทเนียมไนไตรด์) ทั้งแบบชั้นเดียวและแบบหลายชั้นบนผิวโค้งให้มีความละเอียดและสม่ำเสมอ มีแรงยึดเกาะสูงได้

การเคลือบผิวแบบ CVD มีข้อดีได้แก่ เพิ่มความต้านทานการสึกหรอ แต่ความแข็งแรงจะมีค่าลดลง

โดยเฉพาะอย่างยิ่งอัลลอยที่มีเกรนละเอียดถึงละเอียดปานกลาง ค่าความแข็งแรงจะลดลงมากกว่าอัลลอยที่มีเกรนหยาบ ในการออกแบบความแข็งแรงโปรดนำผลนี้ไปพิจารณาร่วมด้วย

นอกจากนี้ยังมีข้อควรระวังคือ กระบวนการขัดเงาผิวทำได้ยาก ผิวที่ได้ส่วนมากจะมีความหยาบผิวมากกว่าคาร์ไบด์ซึ่งมีผิวเงาเหมือนกระจก